電泳涂裝線、琉璃清洗線有很多水洗工藝。工件清洗的效果直接影響到產品生產后續的穩定性。水洗一般有自來水噴淋清洗、自來水浸漬清洗、純水浸漬清洗、純水噴淋洗、干凈純水噴淋清洗等各道工序。 電泳涂裝線、琉璃清洗線水洗電導率一般要求在15μS/cm2。
電泳后的水洗：超濾水洗后，工件還需要純水清洗，一般有純水浸洗，再加上一道干凈純水噴淋清洗工序，也是采用逆向流動重復利用水，即干凈純水清洗工件后，返回到純水洗槽，然后通過純水槽溢流排出。電泳后的純水洗電導率一般要求15μS/cm2。電泳涂裝行業大型系統一般采用反滲透系統，小型系統可采用離子交換系統，一般用于飾品如表帶、鏡架、手機殼上的面彩色電泳對純水純度更高，需要在后面增加混床或EDI裝置以使產水電導率達到1uS/cm2。
離子交換與反滲透技術的比較：
離子交換與反滲透相比具有投資成本低的優勢
離子交換設備占地一般反滲透設備要小
在原水水質低于200uS/CM時其運行成本也低于反滲透系統
原水電導率高于500uS/CM時其運行成本會比較高
離子交換器交換飽合后需要用酸、堿進行再生
反滲透不需酸堿再生，無環保問題
反滲透產水穩定性比較好
反滲透操作簡單
反滲透在適合高鹽份(電導率)的水源
用于涂裝行業的離子交換設備：
離子交換是通過置換反應交換水中的陰(CaCO32-SO42-，HCO3-等)陽(Ca2+， Mg2+，Fe2+等)離子，同時釋放H+和OH-產生純水。這種工藝可實現自動化操作，需要酸堿再生， 在原水低鹽份(表現出現電導低于200左右)運行成本和投資成本雙低，但原水電導率達到500uS/CM2，運行成本就比較高了。

RO反滲透設備
反滲透設備配置介紹
1、反滲透設備的預處理
由多介質過濾器、活性碳過濾器、全自動軟水器組成。
多介質過濾器：是由全自動控制閥、玻璃鋼罐和不同的級配比的石英砂組成?？捎行У娜コ械膽腋∥锖筒糠帜z體物質，降低原水中的濁度。并可自動進行反沖洗。
活性碳過濾器：是由全自動控制閥、玻璃罐和不同凈水級活性碳組成?？捎行У奈皆械闹亟饘?、游離氯、氯仿等有害物質。并可自動進行反沖洗。
食品級軟水器：是由全自動控制閥、玻璃鋼罐和食品級樹脂組成。通過食品級軟水器，可有效去除水中的鈣、鎂離子。使反滲透設備在運行中不會因為結垢而影響反滲透膜的使用壽命。并可自動進行再生。
2、反滲透設備主機部分
反滲透水質凈化設備主機主要由保安過濾器、高壓泵、反滲透膜及各種控制及顯示儀表組成。
保安過濾器：保安過濾器是在原水進入膜以前的后一道保護。它可以有效去除前處理泄漏的大于５μm 的物質。主要是防止懸浮微粒進入反滲透膜元件，在膜表面沉積而污染膜元件。
▼ 高壓泵：提供反滲透所需壓力，為溶劑與溶質的分離提供保證。高壓泵是反滲透設備的關鍵部件。
▼ 反滲透膜組：反滲透膜組是由具有高度有序矩陣結構的聚合纖維組成的。它的孔徑為１－１０埃，即一百億分米到十億分米（相當于大腸大小的六千分，的三千分），利用反滲透膜的分離特性，可以有效的去除溶劑中的溶解鹽、膠體、有機物、重金屬、加氯消毒而產生的三鹵甲烷中間體、和微生物等雜質。
▼ 反滲透膜殼：用于容納反滲透膜元件，承壓并產生一個高壓環境進行反滲透操作。
▼ 計：純水計和濃水計分別測量ＲＯ純水、濃水即時。
▼ 壓力表：測量反滲透設備各處水壓。
▼ 濃水調節閥：用于調節ＲＯ設備的操作壓力、純水和濃比例、純水產量。
▼ 電導率儀：監測反滲透出水的電導率。
▼ 低壓開關：防止ＲＯ高壓泵空轉或在超過極限低壓下工作。
▼ 液位控制器：根據原水水箱以及純水水箱的液位對反滲透設備自動進行停機或啟動的操作。
▼ 電控系統：含電導率儀等儀器儀表、控制設備，是反滲透設備的控制中心。
用反滲透設備來制造純水、高純水需要根據每個用戶的行業特性、設備產水要求、現場工況等來進行綜合設計。
反滲透設備
反滲透簡介hspace=0
RO（Reverse Osmosis）反滲透技術是利用壓力表差為動力的膜分離過濾技術，源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究，后逐漸轉化為民用，目前已廣泛運用于科研、、食品、飲料、海水淡化等領域。
RO反滲透膜孔徑小至納米級（1納米=10-9米），在一定的壓力下，H2O分子可以通過RO膜，而源水中的無機鹽、重金屬離子、有機物、膠體、、等雜質無法通過RO膜，從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區分開來。
一般性的自來水經過RO膜過濾后的純水電導率5μs/cm（RO膜過濾后出水電導=進水電導×除鹽率，一般進口反滲透膜脫鹽率都能達到99%以上，5年內運行能保證97%以上。對出水電導要求比較高的，可以采用2級反滲透，再經過簡單的處理，水電導能小于1μs/cm）, 符合國家實驗室用水標準。再經過原子級離子交換柱循環過濾，出水電阻率可以達到18.2M .cm，超過國家實驗室一級用水標準（GB682—92）。
反滲透原理
RO反滲透設備采用當代、節能有效的膜分離技術，反滲透設備其原理是在高于溶液滲透壓的作用下，使其他物質不能透過半透膜而將其它物質和水分離開來。反滲透膜的膜孔徑非常小，因此反滲透設備能夠有效地去除水中的溶解鹽類、膠體、微生物、有機物等，反滲透設備可以生產純水、高純水，以滿足不同行業、不同需求的用戶。
當純水和鹽水被理想半透膜隔開，理想半透膜只允許水通過而阻止鹽通過，此時膜純水側的水會自發地通過半透膜流入鹽水一側，這種現象稱為滲透，若在膜的鹽水側施加壓力，那么水的自發流動將受到抑制而減慢，當施加的壓力達到某一數值時，水通過膜的凈等于零，這個壓力稱為滲透壓力，當施加在膜鹽水側的壓力大于滲透壓力時，水的流向就會逆轉，此時，鹽水中的水將流入純水側，上述現象就是水的反滲透（RO）處理的基本原理。
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（RO反滲透膜基本原理）
應用范圍
太空水、純凈水、蒸餾水等制備； 酒類制造及降度用水； 、電子等行業用水的前期制備； 化工工藝的濃縮、分離、提純及配水制備； 鍋爐補給水除鹽軟水； 海水、苦咸水淡化； 造紙、電鍍、印染等行業用水及廢水處理。

一、工藝流程特點
1、本制水系統分預處理、一級反滲透、精處理二部分組成。預處理采用機械過濾器、活性炭過濾器、5μm保安濾器。其中機械過濾器除雜質和泥沙；活性炭過濾器除有機物和異味； 5μm保安濾器去除大于5μm以上的微粒，保證產水達到反滲透進水的要求。
2、反滲透系統采用美國陶氏的BW型膜元件，能耗低，脫鹽率高、產水量大。
二、系統單元設備說明
▲機械過濾器：去除水中的沙子、泥巴、鐵銹等懸浮物及部分膠體雜質。
▲活性碳過濾器：去除有機物雜質、部分臭味，除余氯?？煞乐褂袡C物污染反滲透膜和余氯氧化反滲透膜。
▲5微米保安濾器:去除5微米以上的殘余微粒，防止堵塞反滲透膜。
▲一級高壓泵：給反滲透裝置供水和提供反滲透所需的壓力。
▲一級反滲透裝置：有效去除分子量在200以上的有機物大分子、有毒有害物質。對離子的去除率大于99%，使產水電導率小于15μs/cm。
▲純水箱：儲存經一級反滲透產純水，起緩沖作用，使水中二氧化碳氣體含量小于5ppm。
▲電控系統：控制整套設備的運行。
省心：
直飲水設備（家用，辦公、工廠，商用凈水設備）一次投資，長期使用！反滲透水處理機產出安全水，水，新鮮水，您從此不再為水質不佳而擔心。
省事：
桶裝水需要搬運，更換，等水和結款。純凈水可直接飲水機，可直接生飲。實現即制即飲。時時都是新鮮水。
省錢：
購買桶裝水累計也是個不小數目，而直飲水設備可根據人數來定制機型大小。一定比桶裝實惠，健康、安全。
其耗電量低，成本經濟，反滲透直飲水設備已成為單位、工廠飲水。

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
高品質顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。
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